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次世代ULSI製造のための表面反応プロセス

菅原活郎, 前田和夫編集委員. -- サイエンスフォーラム, 1994. -- (New trigger series). <TW00152233>
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次世代ULSI製造のための表面反応プロセス

菅原活郎, 前田和夫編集委員. -- サイエンスフォーラム, 1994. -- (New trigger series). <TW00152233>
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No. 巻号 所蔵館 配置場所 請求記号 資料ID 禁帯出区分 状態 返却予定日 予約
0001 図書館 B1F/和図書５ 549.8/Su 28 03171582 　 　 0件
No. 0001
巻号
所蔵館 図書館
配置場所 B1F/和図書５
請求記号 549.8/Su 28
資料ID 03171582
禁帯出区分 　
状態 　
返却予定日
予約 0件
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書誌詳細

標題および責任表示 次世代ULSI製造のための表面反応プロセス / 菅原活郎, 前田和夫編集委員
ジセダイ ULSI セイゾウ ノ タメ ノ ヒョウメン ハンノウ プロセス
出版・頒布事項 東京 : サイエンスフォーラム , 1994.6
形態事項 305p ; 31cm
書誌構造リンク New trigger series||New trigger series <>//a
学情ID BN10951795
本文言語コード 日本語
著者標目リンク 菅原, 活郎(1942-)
スガワラ, カツロウ <>
著者標目リンク 前田, 和夫
マエダ, カズオ <>
分類標目 NDC:549.8
件名標目等 集積回路
件名標目等 半導体
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