中部大学附属三浦記念図書館
ログイン
  • 目録検索 目録検索 ▼
  • 利用者サービス 利用者サービス ▼
    • 利用状況の確認
    • ブックマーク
    • お気に入り検索
    • レビュー履歴
    • タグ履歴
    • ILL複写依頼
    • ILL貸借依頼
    • 購入依頼

中部大学附属三浦記念図書館

前の画面へ戻る

フォトレジスト材料開発の新展開

上田充監修. -- 普及版. -- シーエムシー出版, 2015. -- (CMCテクニカルライブラリー ; 562 . エレクトロニクスシリーズ). <TB00227066>
登録タグ：
登録されているタグはありません
便利機能：
レビューを見る 詳細情報を見る
書誌URL：

フォトレジスト材料開発の新展開

上田充監修. -- 普及版. -- シーエムシー出版, 2015. -- (CMCテクニカルライブラリー ; 562 . エレクトロニクスシリーズ). <TB00227066>
登録タグ：
登録されているタグはありません
便利機能：
レビューを見る 詳細情報を見る
書誌URL：

所蔵一覧 1件～1件（全1件）

ナンバーをクリックすると所蔵詳細をみることができます。

No. 巻号 所蔵館 配置場所 請求記号 資料ID 禁帯出区分 状態 返却予定日 予約
0001 図書館 3F/和図書５ 549.7/F 41 20160002182 　 　 0件
No. 0001
巻号
所蔵館 図書館
配置場所 3F/和図書５
請求記号 549.7/F 41
資料ID 20160002182
禁帯出区分 　
状態 　
返却予定日
予約 0件
このページのTOPへ

書誌詳細

標題および責任表示 フォトレジスト材料開発の新展開 / 上田充監修
フォトレジスト ザイリョウ カイハツ ノ シンテンカイ
版事項 普及版
出版・頒布事項 東京 : シーエムシー出版 , 2015.11
形態事項 vii, 317p : 挿図 ; 26cm
巻号情報
ISBN 9784781310398
書誌構造リンク CMCテクニカルライブラリー||CMC テクニカル ライブラリー <TB00151492> 562 . エレクトロニクスシリーズ||エレクトロニクス シリーズ//aa
その他の標題 標題紙タイトル:New trends of photoresists
注記 2009年刊の普及版
注記 文献: 各章末
学情ID BB19937937
本文言語コード 日本語
著者標目リンク 上田, 充(1948-)||ウエダ, ミツル <AU00064149>
分類標目 電子工学 NDC8:549.7
分類標目 電子工学 NDC9:549.7
件名標目等 リソグラフィー||リソグラフィー
件名標目等 感光性樹脂||カンコウセイジュシ
このページのTOPへ
前の画面へ戻る
このページのTOPへ

  • 関連情報

    関連資料

    他の検索サイトで探す

    他大学資料確認

    資料を取り寄せる

    • ILL複写依頼(コピー取り寄せ)
    • ILL貸借依頼(現物借用)

    購入依頼

    この書誌のQRコード