中部大学附属三浦記念図書館

クラスターイオンビーム基礎と応用 : 次世代ナノ加工プロセス技術

山田公編著. -- 日刊工業新聞社, 2006. <TB00087802>
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No. 巻号 所蔵館 配置場所 請求記号 資料ID 禁帯出区分 状態 返却予定日 予約
0001 図書館 3F/和図書5 549.1/Y 19 20060009771     0件
No. 0001
巻号
所蔵館 図書館
配置場所 3F/和図書5
請求記号 549.1/Y 19
資料ID 20060009771
禁帯出区分  
状態  
返却予定日
予約 0件

書誌詳細

標題および責任表示 クラスターイオンビーム基礎と応用 : 次世代ナノ加工プロセス技術 / 山田公編著
クラスター イオン ビーム キソ ト オウヨウ : ジセダイ ナノ カコウ プロセス ギジュツ
出版・頒布事項 東京 : 日刊工業新聞社 , 2006.10
形態事項 xi, 223p ; 21cm
巻号情報
ISBN 4526057657
その他の標題 標題紙タイトル:Cluster ion beam technology : advanced nano fabrication process
学情ID BA79102802
本文言語コード 日本語
著者標目リンク 山田, 公
ヤマダ, イサオ <>
分類標目 電子工学 NDC8:549.1
分類標目 電子工学 NDC9:549.1
件名標目等 イオンビーム||イオンビーム