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PVD for microelectronics : sputter deposition applied to semiconductor manufacturing

Ronald A. Powell, Stephen M. Rossnagel. -- Academic Press, 1998. -- (Thin films ; v. 26). <TY00077291>
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PVD for microelectronics : sputter deposition applied to semiconductor manufacturing

Ronald A. Powell, Stephen M. Rossnagel. -- Academic Press, 1998. -- (Thin films ; v. 26). <TY00077291>
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No. 巻号 所蔵館 配置場所 請求記号 資料ID 禁帯出区分 状態 返却予定日 予約
0001 図書館 B1F/洋図書４ 428.05/P 57/26 04105923 　 　 0件
No. 0001
巻号
所蔵館 図書館
配置場所 B1F/洋図書４
請求記号 428.05/P 57/26
資料ID 04105923
禁帯出区分 　
状態 　
返却予定日
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書誌詳細

標題および責任表示 PVD for microelectronics : sputter deposition applied to semiconductor manufacturing / Ronald A. Powell, Stephen M. Rossnagel
出版・頒布事項 Boston, Mass. : Academic Press , 1998
形態事項 xiii, 419 p. ; 24 cm
巻号情報
ISBN 012533026X
書誌構造リンク Thin films <TY00075458> v. 26//a
注記 Includes index
学情ID BA38746553
本文言語コード 英語
著者標目リンク *Powell, Ronald A. <>
著者標目リンク Rossnagel, Stephen M. <>
分類標目 LCC:TK7872.T55
分類標目 DC21:621.3815/2
件名標目等 Thin film devices -- Design and construction
件名標目等 Vapor-plating
件名標目等 Thin films
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