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Modeling of film deposition for microelectronic applications

edited by Stephen Rossnagel. -- Academic Press, 1996. -- (Thin films ; v. 22). <TY00066825>
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Modeling of film deposition for microelectronic applications

edited by Stephen Rossnagel. -- Academic Press, 1996. -- (Thin films ; v. 22). <TY00066825>
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所蔵一覧 1件～1件（全1件）

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No. 巻号 所蔵館 配置場所 請求記号 資料ID 禁帯出区分 状態 返却予定日 予約
0001 図書館 B1F/洋図書４ 428.05/P 57/22 03903605 　 　 0件
No. 0001
巻号
所蔵館 図書館
配置場所 B1F/洋図書４
請求記号 428.05/P 57/22
資料ID 03903605
禁帯出区分 　
状態 　
返却予定日
予約 0件
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書誌詳細

標題および責任表示 Modeling of film deposition for microelectronic applications / edited by Stephen Rossnagel
出版・頒布事項 San Diego ; Tokyo : Academic Press , c1996
形態事項 xiv, 291 p., [2] leaves of plates : ill. (some col.) ; 24 cm
巻号情報
ISBN 0125330227
書誌構造リンク Thin films <TY00075458> v. 22//b
注記 Includes bibliographical references and indexes
学情ID BA28758239
本文言語コード 英語
著者標目リンク Rossnagel, Stephen <>
分類標目 NDC:428.05
件名標目等 Thin films
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